Semiconductor Aluminiumoxid Substrat

Semiconductor Alumina Substrat Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Alumina (Al2O3) Haaptverbrauch

Semiconductor Fabrikatioun Equipement Deeler (Kavitéit Deeler, Isolatioun flanges, Ätzen Equipement Deeler, wafer Chuck);Crusher Deeler (Klassifizéierer, Loft Millen, Bead Mill);Allgemeng industriell Komponente (Laser Veraarbechtung Maschinn nozzles, shafts, lager);Héich-Präzisioun, Präzisioun, Hëtzt-resistent géint metallurgical Handwierksgeschir (Positionéierung Fixture, Assemblée fixture);Verschleißbeständeg Deeler (Zeechnen Maschinn Guide Roller, Drot Kanal, Guide Schinn);Elektresch Isoléierdeeler (Isolatoren, Dichtungen, Bëscher).

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Alumina Keramik

1. Héich hardness

Rockwell Hardness ass HRA80-90, d'Häert ass manner wéi Diamant, vill méi wéi d'Verschleißbeständegkeet vu verschleißbeständeg Stol an Edelstol.

2. Excellent zouzedrécken Resistenz

Gemooss vu professionnelle Fuerschungsinstituter ass seng Verschleißbeständegkeet gläichwäerteg mat 266 Mol Manganstol.Gaoming Goss 171,5 Mol, laut eis méi wéi zéng Joer vun Client Tracking Ëmfro, ënnert der selwechter Aarbechtskonditiounen, kann de Service Liewen vun der Ausrüstung op d'mannst zéng mol méi verlängeren.

3. Liicht Gewiicht

Seng Dicht vun 3.5g/cm3 ass nëmmen d'Halschent vun deem vum Stol, wat d'Ausrüstungsbelaaschtung staark reduzéiere kann.

Eegeschaften:

Héich mechanical Kraaft

Héich Resistenz a gutt Isolatioun

Mohs Hardness vun 9 an excellent zouzedrécken Resistenz

Héich Schmelzpunkten a Korrosiounsbeständegkeet

Gutt sDësch

Optesch Eegeschaften

Ionesch Konduktivitéit

Applikatioun Industrie: Maschinnen, elektronesch, chemesch, Petrol etc.
Spezifesch Applikatioun: Elektresch Keramik Substrat, Plunger, Dichtungsring etc.