D'Halbleiter Quarz Crucible mat héich Rengheet an héich Hëtzt Resistenz gëtt ugeholl

D'Halbleiter Quarz Crucible mat héich Rengheet an héich Hëtzt Resistenz ass ugeholl Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Quarz Crucible mat héich Rengheet an héich Hëtzt Resistenz ass e wesentleche Bestanddeel am Zeechnen Prozess vun monocrystalline Silizium.D'Performance vun Quarz Crucible huet e groussen Impakt op der crystallization Taux vun monocrystalline Silicon, an Weitai Energy huet permanent innovéiert op wéi d'Kristalliséierung Taux vun Clienten ze verbesseren, an huet och grouss Duerchbroch gemaach.Fir déi verschiddenste Produktiounsbedürfnisser vu verschiddene Clienten gerecht ze ginn, huet eis Firma véier Serie vu Quarz-Kräiz entwéckelt fir mat verschiddene Kristallzuchprozesser vu Clienten ze këmmeren.Quarz Crucible Gréissten Mir decken de Moment vun 14 "bis 32" an hunn d'technesch Fäegkeet fir méi grouss Gréissten no Client Ufuerderunge ze personaliséieren.

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Quarz Crucible ass e wesentleche Bestanddeel am Prozess vum Mono-Kristall Silizium zéien deem seng Leeschtung e groussen Afloss op d'Kristalliséierungsquote huet.Dëst ass well wann d'Divirtrifizéierung op der banneschten Uewerfläch geschitt ass, kann d'Kristallographie eroffalen an dann un den eenzege Silizium hänken, sou datt d'Kristalliséierungsquote reduzéiert ginn.Dem AQMN seng Kreeser sinn net einfach d'Devitrifikatioun ze bilden an hunn déi folgend 2 Charakteristiken:

1. Manner Bubble an der transparenter Schicht

2. Innere Uewerfläch héich Reinigung

Quarz Crucibles produzéiert vun eiser Firma, et gi keng Blasen an der transparenter Schicht.Déi aktuell Haaptart all speziell Prozess Technologie adoptéieren, dann maachen d'Serie kann Bubble Expansioun am Réck-up Layer behalen an de Service Liewen ënner héich Temperatur drastesch förderen.