6 Zoll N-Typ SiC Substrat

Kuerz Beschreiwung:

Semicera bitt eng breet Palette vun 4H-8H SiC Wafers. Zënter ville Joere si mir e Fabrikant an Zouliwwerer vu Produkter fir d'Hallefueder- a Photovoltaikindustrie. Eis Haaptprodukter enthalen: Siliziumkarbid Ätzplacken, Siliziumkarbid Boots Trailer, Siliziumkarbid Waferboote (PV & Semiconductor), Siliziumcarbid Uewen-Röhre, Siliziumkarbid-Cantilever Paddelen, Siliziumkarbid-Chucks, Siliziumkarbidstrahlen, souwéi CVD SiC Beschichtungen, souwéi CVD SiC Beschichtungen. TaC Beschichtungen. Deckt déi meescht europäesch an amerikanesch Mäert. Mir freeën eis Äre laangfristeg Partner a China ze sinn.

 

Produit Detailer

Produit Tags

Silicon Carbide (SiC) Eenkristallmaterial huet eng grouss Band Spalt Breet (~ Si 3 Mol), héich thermesch Leit (~ Si 3,3 Mol oder GaAs 10 Mol), héich Elektronen Sättigung Migratioun Taux (~ Si 2,5 Mol), héich Decompte elektresch Feld (~ Si 10 Mol oder GaAs 5 Mol) an aner aussergewéinlech Charakteristiken.

Déi drëtt Generatioun Hallefleitmaterialien enthalen haaptsächlech SiC, GaN, Diamant, etc., well seng Bandspaltbreet (Eg) méi grouss ass wéi oder gläich wéi 2,3 Elektronenvolt (eV), och bekannt als Breetbandspalt-Hallefuedermaterial. Am Verglach mat der éischter an zweeter Generatioun semiconductor Material, déi drëtt Generatioun semiconductor Materialien hunn d'Virdeeler vun héich thermesch Leit, héich Decompte elektrescht Feld, héich gesättegt Elektronen Migratioun Taux an héich Bindung Energie, déi nei Ufuerderunge vun modern elektronesch Technologie fir héich treffen kann. Temperatur, héich Muecht, héich Drock, héich Frequenz an Stralung Resistenz an aner haart Konditiounen. Et huet wichteg Uwendungsperspektiven an de Beräicher vun der nationaler Verteidegung, Loftfaart, Raumfaart, Uelegfuerschung, optesch Lagerung, asw., a kann Energieverloscht ëm méi wéi 50% reduzéieren a ville strategesche Industrien wéi Breetbandkommunikatioun, Solarenergie, Autosfabrikatioun, Hallefleitbeliichtung, a Smart Gitter, a kann Ausrüstungsvolumen ëm méi wéi 75% reduzéieren, wat e Meilesteen bedeitend ass fir d'Entwécklung vun der mënschlecher Wëssenschaft an der Technologie.

Semicera Energie kann Clienten mat héichqualitativen Conductive (Conductive), Semi-isoléierend (Semi-isoléierend), HPSI (High Purity semi-isoléierend) Siliziumkarbidsubstrat ubidden; Zousätzlech kënne mir Clienten homogenen an heterogenen Siliziumkarbid-Epitaxialplacke ubidden; Mir kënnen och d'Epitaxialplack no de spezifesche Bedierfnesser vun de Clienten personaliséieren, an et gëtt keng Mindestbestellungsquantitéit.

Artikelen

Produktioun

Fuerschung

Dummy

Crystal Parameteren

Polytyp

4H

Uewerfläch Orientéierung Feeler

<11-20 >4±0,15°

Elektresch Parameteren

Dopant

n-Typ Stickstoff

Resistivitéit

0,015-0,025 Ohm·cm

Mechanesch Parameteren

Duerchmiesser

150,0 ± 0,2 mm

Dicke

350 ± 25 μm

Primär flaach Orientéierung

[1-100] ± 5°

Primär flaach Längt

47,5 ± 1,5 mm

Secondaire Appartement

Keen

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm*5mm)

≤5 μm (5mm*5mm)

≤10 μm (5mm*5mm)

Béi

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Front (Si-Face) Rauhegkeet (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Struktur

Mikropipe Dicht

<1 e/cm2

<10 e/cm2

<15 e/cm2

Metal Gëftstoffer

≤5E10 Atom/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Front Qualitéit

Front

Si

Surface Finish

Si-Gesiicht CMP

Partikel

≤60ea/wafer (Gréisst≥0.3μm)

NA

Kratzer

≤5 ea/mm. Kumulativ Längt ≤ Duerchmiesser

Kumulativ Längt≤2*Duerchmiesser

NA

Orangeschielen / Pits / Flecken / Sträifen / Rëss / Kontaminatioun

Keen

NA

Kantchips / Abriecher / Fraktur / Hexplacke

Keen

Polytype Beräicher

Keen

Kumulative Beräich ≤20%

Kumulativ Beräich ≤30%

Front Laser Marquage

Keen

Zréck Qualitéit

Back Finish

C-Gesiicht CMP

Kratzer

≤5ea/mm, Kumulativ Längt≤2*Duerchmiesser

NA

Réckdefekter (Randchips/Abrécken)

Keen

Réck roughness

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Réck Laser Marquage

1 mm (vun uewen Rand)

Rand

Rand

Chamfer

Verpakung

Verpakung

Epi-ready mat Vakuum Verpackung

Multi-Wafer Kassett Verpakung

* Notizen: "NA" heescht keng Ufro Artikelen déi net ernimmt kënne bezéie sech op SEMI-STD.

tech_1_2_Gréisst
SiC wafers

Semicera Aarbechtsplaz Semicera Aarbechtsplaz 2 Equipement Maschinn CNN Veraarbechtung, chemesch Botzen, CVD Beschichtung Eise Service


  • virdrun:
  • Nächste: