6 Zoll n-Typ sic Substrat

Kuerz Beschreiwung:

6-Zoll n-Typ SiC Substrat‌ ass e Hallefleitmaterial dat duerch d'Benotzung vun enger 6-Zoll Wafergréisst charakteriséiert gëtt, wat d'Zuel vun den Apparater erhéicht, déi op enger eenzeger Wafer iwwer eng méi grouss Uewerfläch produzéiert kënne ginn, an doduerch d'Käschte vum Apparatniveau reduzéieren . D'Entwécklung an d'Applikatioun vu 6-Zoll n-Typ SiC-Substrate profitéiert vum Fortschrëtt vun Technologien wéi d'RAF Wuesstumsmethod, déi Dislokatiounen reduzéiert andeems d'Kristalle laanscht Dislokatiounen a parallele Richtungen schneiden an d'Kristalle widderhuelen, doduerch d'Qualitéit vum Substrat verbesseren. D'Applikatioun vun dësem Substrat ass vu grousser Bedeitung fir d'Produktiounseffizienz ze verbesseren an d'Käschte vu SiC Kraaftapparater ze reduzéieren.

 


Produit Detailer

Produit Tags

Silicon Carbide (SiC) Eenkristallmaterial huet eng grouss Band Spalt Breet (~ Si 3 Mol), héich thermesch Leit (~ Si 3,3 Mol oder GaAs 10 Mol), héich Elektronen Sättigung Migratioun Taux (~ Si 2,5 Mol), héich Decompte elektresch Feld (~ Si 10 Mol oder GaAs 5 Mol) an aner aussergewéinlech Charakteristiken.

Déi drëtt Generatioun Hallefleitmaterialien enthalen haaptsächlech SiC, GaN, Diamant, etc., well seng Bandspaltbreet (Eg) méi grouss ass wéi oder gläich wéi 2,3 Elektronenvolt (eV), och bekannt als Breetbandspalt-Hallefuedermaterial. Am Verglach mat der éischter an zweeter Generatioun semiconductor Material, déi drëtt Generatioun semiconductor Materialien hunn d'Virdeeler vun héich thermesch Leit, héich Decompte elektrescht Feld, héich gesättegt Elektronen Migratioun Taux an héich Bindung Energie, déi nei Ufuerderunge vun modern elektronesch Technologie fir héich treffen kann. Temperatur, héich Muecht, héich Drock, héich Frequenz an Stralung Resistenz an aner haart Konditiounen. Et huet wichteg Uwendungsperspektiven an de Beräicher vun der nationaler Verteidegung, Loftfaart, Raumfaart, Uelegfuerschung, optesch Lagerung, asw., a kann Energieverloscht ëm méi wéi 50% reduzéieren a ville strategesche Industrien wéi Breetbandkommunikatioun, Solarenergie, Autosfabrikatioun, Hallefleitbeliichtung, a Smart Gitter, a kann Ausrüstungsvolumen ëm méi wéi 75% reduzéieren, wat e Meilesteen bedeitend ass fir d'Entwécklung vun der Mënschheetswëssenschaft an Technologie.

Semicera Energie kann Clienten mat héichqualitativen Conductive (Conductive), Semi-isoléierend (Semi-isoléierend), HPSI (High Purity semi-isoléierend) Siliziumkarbidsubstrat ubidden; Zousätzlech kënne mir Clienten homogenen an heterogenen Siliziumkarbid-Epitaxialplacke ubidden; Mir kënnen och d'Epitaxialplack no de spezifesche Bedierfnesser vun de Clienten personaliséieren, an et gëtt keng Mindestbestellungsquantitéit.

BASIC PRODUIT SPESIFIKATIOUNEN

Gréisst

 6 Zoll
Duerchmiesser 150.0mm+0mm/-0.2mm
Uewerfläch Orientatioun Off-Achs: 4° Richtung <1120> ± 0,5°
Primär flaach Längt 47,5 mm 1,5 mm
Primär flaach Orientéierung <1120>±1,0°
Secondaire Flat Keen
Dicke 350.0um ± 25.0um
Polytyp 4H
Konduktiv Typ n-Typ

CRYSTAL QUALITÉIT Spezifikatioune

6 Zoll
Artikel P-MOS Grad P-SBD Grad
Resistivitéit 0,015 Ω·cm-0,025Ω·cm
Polytyp Keen erlaabt
Mikropipe Dicht ≤0,2/cm2 ≤0,5/cm2
EPD ≤4000/cm2 ≤8000/cm2
TED ≤3000/cm2 ≤6000/cm2
BPD ≤1000/cm2 ≤2000/cm2
TSD ≤300/cm2 ≤1000/cm2
SF (Gemooss duerch UV-PL-355nm) ≤0,5% Beräich ≤1% Beräich
Hex Placke duerch héich Intensitéit Liicht Keen erlaabt
Visual CarbonInklusiounen duerch héich Intensitéit Liicht Kumulativ Beräich ≤0,05%
微信截图_20240822105943

Resistivitéit

Polytyp

6 lnch n-Typ sic Substrat (3)
6 lnch n-Typ sic Substrat (4)

BPD & TSD

6 lnch n-Typ sic Substrat (5)
SiC wafers

  • virdrun:
  • Nächste: