Héich Puritéit SiC Pulver

Kuerz Beschreiwung:

High-Purity SiC Powder vu Semicera bitt aussergewéinlech héije Kuelestoff- a Siliziumgehalt, mat Rengheetsniveauen tëscht 4N bis 6N. Mat Partikelgréissten vun Nanometer bis Mikrometer huet et eng grouss spezifesch Uewerfläch. Semicera's SiC-Pulver verbessert d'Reaktivitéit, Dispersibilitéit an d'Uewerflächenaktivitéit, ideal fir fortgeschratt Materialapplikatiounen.

Produit Detailer

Produit Tags

Siliciumcarbid (SiC)ass séier eng léifste Wiel iwwer Silizium fir elektronesch Komponenten, besonnesch a breet Bandgap Uwendungen. SiC bitt verstäerkte Kraafteffizienz, kompakt Gréisst, reduzéiert Gewiicht, a manner Gesamtsystemkäschte.

 D'Demande fir High-Purity SiC-Pudder an der Elektronik- a Hallefleitindustrie huet Semicera gefuer fir eng héich Rengheet z'entwéckelenSiC Pulver. Dem Semicera seng innovativ Method fir héich Puritéit SiC ze produzéieren resultéiert a Puder, déi méi glatter Morphologieverännerungen, méi luesen Materialverbrauch a méi stabile Wuesstumsinterfaces a Kristallwachstumsetups weisen.

 Eis High-Purity SiC-Pulver ass a verschiddene Gréissten verfügbar a ka personaliséiert ginn fir spezifesch Clientsufuerderungen z'erreechen. Fir méi Detailer a fir Äre Projet ze diskutéieren, kontaktéiert w.e.g. Semicera.

 

1. Partikelgréisst Range:

Deckt Submikron bis Millimeter Skalen.

Siliziumkarbid Kraaft_Semicera-1
Siliziumkarbid Kraaft_Semicera-3
Siliziumkarbid Kraaft_Semicera-2
Siliziumkarbid Kraaft_Semicera-4

2. Pudder Puritéit

Siliziumkarbid Kraaft Purity_Semicera1
Siliziumkarbid Kraaft Purity_Semicera2

4N Testbericht

3.Powder Kristaller

Deckt Submikron bis Millimeter Skalen.

Siliziumkarbid Kraaft_Semicera-5
Siliziumkarbid Kraaft_Semicera-6

4. Mikroskopesch Morphologie

3
4

5. Makroskopesch Morphologie

5

  • virdrun:
  • Nächste: