Isostatesch PECVD Graphite Boot

Kuerz Beschreiwung:

Isostatesch PECVD GRAPHITE Boot ass wäit an verschiddenen Linken vun semiconductor Fabrikatioun benotzt, wéi polysilicon Film Oflagerung, Oxid Film Oflagerung, Nitrid Film Oflagerung, etc. Seng excellent Leeschtung mécht et eng ideal wafer Carrier am PECVD Prozess.

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

SEMICERA isostatescht PECVD Grafitboot ass e High-Purity, High-Density GRAPHIT Produkt entworf fir Wafer Ënnerstëtzung am PECVD (Plasma verstäerkte chemesche Vapor Deposition) Prozess. SEMICERA benotzt fortgeschratt isostatesch Drécktechnologie fir sécherzestellen datt d'Graphitboot eng exzellente Héichtemperaturbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet, Dimensiounsstabilitéit a gutt thermesch Konduktivitéit huet, wat en onverzichtbare Verbrauch am Halbleiterfabrikatiounsprozess ass.

SEMICERA isostatescht PECVD Grafitboot huet déi folgend Virdeeler:

▪ Héich Rengheet: D'Graphitmaterial ass vu héijer Rengheet a gerénger Gëftstoffgehalt fir Kontaminatioun vun der Wafer Uewerfläch ze vermeiden.

▪ Héich Dicht: Héich Dicht, héich mechanesch Kraaft, kann héich Temperaturen an héich Vakuum Ëmfeld widderstoen.

▪ Gutt Dimensiounsstabilitéit: Kleng Dimensiounsverännerung bei héijer Temperatur fir Prozessstabilitéit ze garantéieren.

▪ Exzellent thermesch Konduktivitéit: Effektiv Hëtzt transferéieren fir Wafer Iwwerhëtzung ze vermeiden.

▪ Staark Korrosiounsbeständegkeet: fäeg Erosioun duerch verschidde korrosive Gase a Plasma ze widderstoen.

Leeschtung Parameter	semicera	SGL R6510	Leeschtung Parameter
Bulk Dicht (g/cm3)	1.91	1.83	1,85
Béi Kraaft (MPa)	63	60	49
Drockstäerkt (MPa)	135	130	103
Shore Hardness (HS)	70	64	60
Thermesch Expansiounskoeffizient (10-6/K)	85	105	130
Thermesch Expansiounskoeffizient (10-6/K)	5,85	4.2	5.0
Resistivitéit (μΩm)	11-13	13	10

Virdeeler fir eis ze wielen:
▪ Materialauswiel: Héichreinig Graphitmaterialien gi benotzt fir d'Produktqualitéit ze garantéieren.
▪ Veraarbechtungstechnologie: Isostatesch Pressen gëtt benotzt fir d'Produktdicht an d'Uniformitéit ze garantéieren.
▪ Gréisst Personnalisatioun: Graphitboote vu verschiddene Gréissten a Formen kënnen no Clientsbedürfnisser personaliséiert ginn.
▪ Uewerflächenbehandlung: Eng Vielfalt vun Uewerflächebehandlungsmethoden ginn zur Verfügung gestallt, wéi Beschichtung Siliziumkarbid, Bornitrid, asw., fir verschidde Prozessfuerderunge gerecht ze ginn.