-
Wat ass CVD Beschichtete Prozess Tube? | Semicera
E CVD-beschichtete Prozessröhr ass e kriteschen Bestanddeel deen a verschiddenen Héichtemperaturen an héijer Puritéit Fabrikatiounsëmfeld benotzt gëtt, sou wéi Hallefleit a Photovoltaikproduktioun. Bei Semicera si mir spezialiséiert fir qualitativ héichwäerteg CVD-beschichtete Prozessröhren ze produzéieren déi super ...Liest méi -
Wat ass Isostatesch Graphit? | Semicera
Isostatesch Grafit, och bekannt als isostatesch geformt Grafit, bezitt sech op eng Method, wou eng Mëschung aus Rohmaterialien a véiereckege oder ronne Blöcke kompriméiert gëtt an engem System genannt kalt isostatesch Pressen (CIP). Kale isostatesch Pressen ass eng Materialveraarbechtungsmethod fir ...Liest méi -
Wat ass Tantalkarbid? | Semicera
Tantalkarbid ass en extrem haart Keramikmaterial bekannt fir seng aussergewéinlech Eegeschaften, besonnesch an héijen Temperaturen Ëmfeld. Bei Semicera si mir spezialiséiert fir Topqualitéit Tantalkarbid ze liwweren, déi super Leeschtung an Industrien ubitt, déi fortgeschratt Materialien fir extrem ...Liest méi -
Wat ass e Quarz Uewen Core Tube? | Semicera
E Quarz Uewen Kär Rouer ass e wesentleche Bestanddeel a verschiddenen héich-Temperatur Veraarbechtung Ëmfeld, wäit an Industrien wéi Hallefleit Fabrikatioun, Metallurgie, a chemesch Veraarbechtung benotzt. Bei Semicera si mir spezialiséiert op d'Produktioun vu qualitativ héichwäerteg Quarzofen Kärröhre déi bekannt sinn ...Liest méi -
Dréchen Ätz Prozess
Dréchen Ätzprozess besteet normalerweis aus véier Basiszoustand: virum Ätz, deelweis Ätz, just Ätz, an iwwer Ätz. D'Haaptcharakteristike sinn Ätzrate, Selektivitéit, kritesch Dimensioun, Uniformitéit an Endpunkterkennung. Figur 1 Virun Ätzen Figur 2 Partiell Äss Figur ...Liest méi -
SiC Paddle an Semiconductor Manufacturing
Am Räich vun der Halbleiterfabrikatioun spillt de SiC Paddle eng entscheedend Roll, besonnesch am epitaxiale Wuesstumsprozess. Als Schlësselkomponent benotzt an MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) Systemer, SiC Paddles si konstruéiert fir héich Temperaturen z'erhalen an ...Liest méi -
Wat ass Wafer Paddle? | Semicera
E Wafer Paddel ass e wesentleche Bestanddeel deen an der Hallefleitung an der Photovoltaikindustrie benotzt gëtt fir Wafere während Héichtemperaturprozesser ze handhaben. Bei Semicera si mir stolz op eis fortgeschratt Fäegkeeten fir Topqualitéit Wafer Paddelen ze produzéieren déi de strenge Fuerderunge vun ...Liest méi -
Semiconductor Prozess an Ausrüstung (7/7) - Dënn Film Wuesstem Prozess an Ausrüstung
1. Aféierung De Prozess fir Substanzen (Rohmaterialien) op d'Uewerfläch vu Substratmaterialien duerch physesch oder chemesch Methoden ze befestigen gëtt dënn Filmwachstum genannt. No verschiddenen Aarbechtsprinzipien kann d'integréiert Circuit Dënnfilmdepositioun ënnerdeelt ginn an: - Physical Vapor Deposition ( P...Liest méi -
Semiconductor Prozess an Ausrüstung (6/7) - Ion Implantatioun Prozess an Ausrüstung
1. Aféierung Ion Implantatioun ass ee vun den Haaptprozesser an der integréierter Circuit Fabrikatioun. Et bezitt sech op de Prozess fir en Ionestrahl op eng gewëssen Energie ze beschleunegen (allgemeng am Beräich vu keV bis MeV) an dann an d'Uewerfläch vun engem festen Material ze sprëtzen fir de kierperleche Prop ...Liest méi -
Semiconductor Prozess an Ausrüstung (5/7) - Ätzprozess an Ausrüstung
Eng Aféierung Ätzen am integréierte Circuit Fabrikatiounsprozess ass ënnerdeelt an: - Naass Ätz; - Dréchen Ätz. An de fréie Deeg gouf naass Ätzen vill benotzt, awer wéinst senge Aschränkungen an der Linn Breetkontrolle an Ätsdirektivitéit hunn déi meescht Prozesser no 3μm dréchen Ätzen benotzt. Naass Ätzen ass ...Liest méi -
Semiconductor Prozess an Ausrüstung (4/7) - Photolithography Prozess an Ausrüstung
Eng Iwwersiicht Am integréierte Circuit Fabrikatiounsprozess ass Photolithographie de Kärprozess deen den Integratiounsniveau vun integréierte Circuiten bestëmmt. D'Funktioun vun dësem Prozess ass trei d'Circuitgrafikinformatioun vun der Mask (och Mask genannt) iwwerdroen an ze transferéieren ...Liest méi -
Wat ass e Silicon Carbide Square Schacht
Silicon Carbide Square Tray ass en High-Performance Droen-Tool entworf fir Hallefleitfabrikatioun a Veraarbechtung. Et gëtt haaptsächlech benotzt fir Präzisiounsmaterialien wéi Siliziumwaferen a Siliziumkarbidwaferen ze droen. Wéinst der extrem héijer Hardness, héijer Temperaturresistenz a chemescher ...Liest méi