Silicon Carbide Beschichtete Graphit Wafer Carriers

Silicon Carbide Beschichtete Graphite Wafer Carrier Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Semicera Semiconductor's Silicon Carbide Beschichtete Graphite Wafer Carriers bidden aussergewéinlech Kraaft an thermesch Stabilitéit fir Wafer Handhabung. Wielt Semicera fir High-Performance Carrier mat fortgeschratt SiC Beschichtungstechnologie, fir eng verstäerkte Haltbarkeet an Effizienz an Hallefleitapplikatiounen ze garantéieren.

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Beschreiwung

D'Semicorex Wafer Carriers mat SiC Beschichtung bidden aussergewéinlech thermesch Stabilitéit a Konduktivitéit, garantéiert eenheetlech Hëtztverdeelung während CVD Prozesser, entscheedend fir qualitativ héichwäerteg dënn Film a Beschichtungseigenschaften.

Schlëssel Features:

1. Aussergewéinlech thermesch Stabilitéit a KonduktivitéitEis SiC-beschichtete Wafer Carrier excel bei der Erhalen vun stabilen a konsequenten Temperaturen, entscheedend fir CVD Prozesser. Dëst garantéiert eenheetlech Hëtztverdeelung, wat zu enger super dënnem Film a Beschichtungsqualitéit féiert.

2. Präzisioun FabrikatiounAll Wafer Carrier gëtt op exakt Standarden hiergestallt, fir eenheetlech Dicke an Uewerflächeglatheet ze garantéieren. Dës Präzisioun ass wesentlech fir konsequent Oflagerungsraten a Filmeigenschaften iwwer verschidde Waferen z'erreechen, wat d'Gesamtproduktiounsqualitéit verbessert.

3. Gëftstoffer BarrièreD'SiC Beschichtung handelt als impermeabel Barrière, verhënnert d'Diffusioun vun Gëftstoffer aus dem Susceptor an de Wafer. Dëst miniméiert Kontaminatiounsrisiken, wat kritesch ass fir High-Purity Semiconductor-Geräter ze produzéieren.

4. Haltbarkeet a KäschteneffizienzDéi robust Konstruktioun an d'SiC-Beschichtung verbesseren d'Haltbarkeet vun de Waferträger, reduzéiert d'Frequenz vun de Susceptor Ersatzstécker. Dëst féiert zu méi nidderegen Ënnerhaltskäschte a miniméierten Ausdauer, wat d'Effizienz vun de Hallefleitproduktiounsoperatiounen erhéicht.

5. Personnalisatioun OptiounenSemicorex Wafer Carriers mat SiC Beschichtung kënne personaliséiert ginn fir spezifesch Prozessfuerderungen z'erreechen, dorënner Variatiounen an der Gréisst, der Form an der Beschichtungsdicke. Dës Flexibilitéit erlaabt d'Optimiséierung vum Susceptor fir d'eenzegaarteg Fuerderunge vu verschiddene Halbleiterfabrikatiounsprozesser ze passen. Personnalisatiounsoptiounen erméiglechen d'Entwécklung vu Susceptor-Designen, déi fir spezialiséiert Uwendungen ugepasst sinn, wéi High-Volumen-Fabrikatioun oder Fuerschung an Entwécklung, fir eng optimal Leeschtung fir spezifesch Benotzungsfäll ze garantéieren.