De Silicon Carbide Dummy Wafer vu Semicera ass erstallt fir d'Ufuerderunge vun der haiteger héichpräzis Hallefleitindustrie z'erreechen. Bekannt fir seng aussergewéinlech Haltbarkeet, héich thermesch Stabilitéit, a super Rengheet, dëstwaferass wesentlech fir Testen, Kalibrierung a Qualitéitssécherung an der Halbleiterfabrikatioun. Semicera's Silicon Carbide Dummy Wafer bitt oniwwertraff Verschleißbeständegkeet, garantéiert datt et rigoréis Notzung ouni Degradatioun widderstoen kann, wat et ideal mécht fir béid R&D a Produktiounsëmfeld.
Entworf fir verschidden Uwendungen z'ënnerstëtzen, gëtt de Silicon Carbide Dummy Wafer dacks a Prozesser benotztSi Wafer, SiC Substrat, SOI Wafer, SiN Substrat,an anEpi-WaferTechnologien. Seng aussergewéinlech thermesch Konduktivitéit a strukturell Integritéit maachen et eng exzellent Wiel fir Héichtemperaturveraarbechtung an Handhabung, déi heefeg sinn an der Fabrikatioun vun fortgeschrattenen elektronesche Komponenten an Apparater. Zousätzlech miniméiert déi héich Rengheet vum Wafer d'Kontaminatiounsrisiken, an d'Qualitéit vu sensiblen Hallefleitmaterialien erhalen.
An der Hallefleitindustrie déngt de Silicon Carbide Dummy Wafer als zouverlässeg Referenzwafer fir nei Materialprüfungen, dorënner Galliumoxid Ga2O3 an AlN Wafer. Dës opkomende Materialien erfuerderen virsiichteg Analyse an Tester fir hir Stabilitéit a Leeschtung ënner verschiddene Konditiounen ze garantéieren. Andeems Dir dem Semicera's Dummy Wafer benotzt, kréien d'Fabrikanten eng stabil Plattform déi d'Leeschtungskonsistenz behält, an hëlleft bei der Entwécklung vun nächster Generatioun Materialien fir High-Power, RF, an High-Frequenz Uwendungen.
Uwendungen Across Industrien
• Semiconductor Fabrikatioun
SiC Dummy Wafers si wesentlech an der Halbleiterfabrikatioun, besonnesch an den initialen Phasen vun der Produktioun. Si déngen als Schutzbarriär, schützt Siliziumwafere vu potenziellen Schued a garantéiert d'Genauegkeet vum Prozess.
•Qualitéitssécherung an Testen
An der Qualitéitssécherung si SiC Dummy Wafers entscheedend fir d'Liwwerprüfungen an d'Evaluatioun vu Prozessformen. Si erméiglechen präzis Miessunge vu Parameteren wéi Filmdicke, Drockresistenz a Reflexiounsindex, bäidroe fir d'Validatioun vu Produktiounsprozesser.
•Lithographie a Musterverifikatioun
An der Lithographie déngen dës Waferen als Benchmark fir Mustergréisstmiessung an Defektkontroll. Hir Präzisioun an Zouverlässegkeet hëllefen déi gewënschte geometresch Genauegkeet z'erreechen, entscheedend fir d'Funktionalitéit vun de Hallefleitgeräter.
•Fuerschung an Entwécklung
A R&D Ëmfeld ënnerstëtzen d'Flexibilitéit an d'Haltbarkeet vu SiC Dummy Wafers extensiv Experimenter. Hir Kapazitéit fir rigoréis Testbedéngungen z'erhalen mécht se wäertvoll fir nei Hallefleittechnologien z'entwéckelen.
