Entworf fir Liquid Phase Epitaxy (LPE) Uwendungen, Semicera's LPE Meniscus Reactor huet en innovativen Design deen effizient erméiglechtCVD SiC Beschichtungenan ënnerstëtzt eng Rei vun epitaxy Prozesser, dorënner ASM epitaxy anMOCVD. Dem LPE Meniscus Reactor seng robust Konstruktioun a Präzisiounstechnik suerge fir effizient thermesch Gestioun an eenheetlech Oflagerung.
Semicera ass engagéiert fir High-Performance-Léisungen an der Hallefleitindustrie ze bidden. EisLPE Meniskus Reaktorass mat haltbaren Materialien a Präzisiounstechnik hiergestallt fir Zouverlässegkeet an Liewensdauer ze garantéieren. Déi eenzegaarteg Fonctiounen vun dëser Chamber erlaben excellent thermesch Gestioun an eenheetlech Oflagerung, mécht et e groussen Verméigen fir all Labo oder Produktioun Ëmfeld.
Wielt Semicera's LPE Meniscus Reactor fir Är Epitaxial ze verbesserenMOCVD Prozessan erreechen excellent Resultater an dënn Film Oflagerung. Eis Engagement fir Qualitéit an Innovatioun garantéiert datt Dir e Produkt kritt deen den héchste Industrienormen entsprécht.
-
CVD SiC Coating Epitaxial Oflagerung An Epitaxie ...
-
Induktiv gehëtzt Epitaxy Reaktor System
-
Semiconductor SiC Beschichtete monokristallin Silico ...
-
SiC-beschichtete Semiconductor Epitaxial Reaktor fir ...
-
SiC Beschichtung Faass Struktur fir Faass Susceptor
-
Héich Temperatur a korrosiounsbeständeg LED Si ...