Entworf fir Liquid Phase Epitaxy (LPE) Uwendungen, Semicera's LPE Meniscus Reactor huet en innovativen Design deen effizient erméiglechtCVD SiC Beschichtungenan ënnerstëtzt eng Rei vun epitaxy Prozesser, dorënner ASM epitaxy anMOCVD. Déi robust Konstruktioun a Präzisiounstechnik vum LPE Meniscus Reactor suergt fir effizient thermesch Gestioun an eenheetlech Oflagerung.
Semicera ass engagéiert fir High-Performance-Léisungen an der Hallefleitindustrie ze bidden. EisLPE Meniskus Reaktorass mat haltbaren Materialien a Präzisiounstechnik hiergestallt fir Zouverlässegkeet an Liewensdauer ze garantéieren. Déi eenzegaarteg Fonctiounen vun dëser Chamber erlaben excellent thermesch Gestioun an eenheetlech Oflagerung, mécht et e groussen Verméigen fir all Labo oder Produktioun Ëmfeld.
Wielt Semicera's LPE Meniscus Reactor fir Är Epitaxial ze verbesserenMOCVD Prozessan erreechen excellent Resultater an dënn Film Oflagerung. Eis Engagement fir Qualitéit an Innovatioun garantéiert datt Dir e Produkt kritt deen den héchste Industrienormen entsprécht.
-
SiC Beschichtete Epitaxial Reaktorfass
-
ALD Atomer Layer Oflagerung Planetareschen Susceptor
-
LED Etch Silicon Carbide Lager Schacht, ICP Schacht ...
-
PSS Veraarbechtung Carrier fir Hallefleitwafer ...
-
Semiconductor SiC Beschichtete monokristallin Silico ...
-
Graphit Susceptor mat Silicon Carbide Beschichtung ...