D'Rohmaterialien, déi an der Tonerproduktioun benotzt ginn, enthalen normalerweis Flakelgrafit, Petrol Kock a mikrokristallin Steen Tënt.Wat méi héich d'Rengheet vum Grafit ass, dest méi héich ass de Gebrauchswäert.Graphit Reinigungsmethoden kënnen a physikalesch Methoden a chemesch Methoden opgedeelt ginn.Physikalesch Reinigungsmethoden enthalen Flotatioun an Héichtemperaturreinigung, a chemesch Reinigungsmethoden enthalen Säure-Basismethod, Fluorsäuremethod a Chlorbroutmethod.
Ënnert hinnen kann d'Héichtemperaturreinigungsmethod den héije Schmelzpunkt (3773K) a Kachpunkt vu Grafit benotzen fir 4N5 a méi héich Rengheet z'erreechen, wat d'Verdampfung an d'Emissioun vun Gëftstoffer mat engem nidderegen Kachpunkt involvéiert, fir den Zweck vun z'erreechen. Reinigung [6].D'Schlësseltechnologie vum Toner mat héijer Rengheet ass d'Entfernung vu Spuer Gëftstoffer.Kombinéiert mat de Charakteristike vun der chemescher Reinigung an der Héichtemperaturreinigung, gëtt en eenzegaartege segmentéierte Komposit-Héichtemperatur-thermochemesche Reinigungsprozess ugeholl fir d'Reinigung vun héich Rengheet Tonermaterialien z'erreechen, an d'Produktreinheet kann méi wéi 6N sinn.
Produkt Leeschtung a Fonctiounen:
1, Produit Rengheet≥99,9999% (6N);
2, héich Rengheet Kuelestoff Pudder Stabilitéit, héich Grad vun graphitization, manner Gëftstoffer;
3, Granularitéit an Typ kënnen no Benotzer personaliséiert ginn.
Main Gebrauch vum Produkt:
■Synthese vun héich Rengheet SiC Pudder an aner zolidd Phase syntheteschen Carbide Materialien
■Diamanten wuessen
■Nei thermesch Konduktivitéitsmaterialien fir elektronesch Produkter
■Héich-Enn Lithium Batterie Cathode Material
■Edelmetallverbindunge sinn och Rohmaterial
-
Silicon Carbide Beschichtete Epitaxial Reaktor Faass
-
Héich Temperatur a korrosiounsbeständeg LED Si ...
-
Barrel Reactor fir Liquid Phase Epitaxy
-
Anti-Oxidatioun héich Rengheet SiC Beschichtete MOCVD Schacht
-
Semiconductor Silicon baséiert GaN Epitaxie
-
Semi-ceras Barrel Reactor: Empowering Semicondu ...