SiC Epitaxie

Kuerz Beschreiwung:

Semicera bitt personaliséiert dënnem Film (Siliciumkarbid)SiC-Epitaxie op Substrate fir d'Entwécklung vu Siliziumkarbidgeräter. Weitai ass engagéiert Qualitéitsprodukter a kompetitiv Präisser ze bidden, a mir freeën eis Äre laangfristeg Partner a China ze sinn.

 

Produit Detailer

Produit Tags

SiC-Epitaxie (2)(1)

Produit Beschreiwung

4h-n 4inch 6inch dia100mm sic Som wafer 1mm deck fir ingot Wuesstem

Benotzerdefinéiert Gréisst / 2 Zoll / 3 Zoll / 4 Zoll / 6 Zoll 6H-N / 4H-SEMI / 4H-N SIC Ingots / Héich Rengheet 4H-N 4 Zoll 6 Zoll Dia 150 mm Siliziumkarbid Eenkristall (sic) Substrate wafersS / Customzied 4inch geschniddene Produkter Klass 4H-N 1,5 mm SIC Wafers fir Som Kristall

Iwwer Silicon Carbide (SiC) Kristall

Siliziumkarbid (SiC), och bekannt als Carborundum, ass e Hallefleit deen Silizium a Kuelestoff mat der chemescher Formel SiC enthält. SiC gëtt an Hallefleitelektronik Geräter benotzt, déi bei héijen Temperaturen oder héije Spannungen operéieren, oder béid. Muecht LEDs.

Beschreiwung

Immobilie

4H-SiC, Single Crystal

6H-SiC, Single Crystal

Gitter Parameteren

a=3,076 Å c=10,053 Å

a=3.073 Å c=15.117 Å

Stacking Sequenz

ABCB

ABCACB

Mohs Hardness

≈9,2

≈9,2

Dicht

3,21 g/cm3

3,21 g/cm3

Therm. Expansiounskoeffizient

4-5 × 10-6 / K

4-5 × 10-6 / K

Refraktioun Index @750nm

nee = 2,61
ne = 2,66

nee = 2,60
ne = 2,65

Dielektresch Konstant

c~9,66

c~9,66

Thermesch Konduktivitéit (N-Typ, 0,02 ohm.cm)

a~4,2 W/cm·K@298K
c~3,7 W/cm·K@298K

 

Thermesch Konduktivitéit (Hallefisoléierend)

a~4,9 W/cm·K@298K
c~3,9 W/cm·K@298K

a~4,6 W/cm·K@298K
c~3,2 W/cm·K@298K

Band-Gap

3.23 Eng

3,02 eV

Break-Down elektresch Feld

3-5 × 106 V/cm

3-5 × 106 V/cm

Saturatioun Drift Geschwindegkeet

2,0 × 105 m/s

2,0 × 105 m/s

SiC wafers

Semicera Aarbechtsplaz Semicera Aarbechtsplaz 2 Equipement Maschinn CNN Veraarbechtung, chemesch Botzen, CVD Beschichtung Eise Service


  • virdrun:
  • Nächste: