De CVD SiC Ätsring vu Semicera, eng Premier Léisung entworf fir fortgeschratt Halbleiter Fabrikatiounsprozesser. Eis Ätsringe sinn Expert gemaach fir d'Performance vun de CVD SiC Duschkoppen ze verbesseren, fir optimal Resultater während dem Diffusiounsprozess ze garantéieren. Mat hirer robuster Konstruktioun a Präzisiounstechnik bidden dës Réng d'Zouverlässegkeet an d'Effizienz déi fir héichqualitativ dréchen Ätzapplikatiounen erfuerderlech ass.
Bei Semicera verstinn mir déi kritesch Roll déi Siliziumcarbid an der Hallefleittechnologie spillt. Eis CVD SiC Ätzringe si speziell entwéckelt fir verschidde Prozesser z'empfänken, dorënner MOCVD an aner Ätztechniken. Déi zolidd SiC-Zesummesetzung garantéiert eng exzellent thermesch Stabilitéit a chemesch Resistenz, sou datt eis Ätsringen eng léifste Wiel fir déi exigent Ëmfeld maachen.
Eist Engagement fir Innovatioun a Qualitéit garantéiert datt all CVD SiC Ätsring den héchste Industrienormen entsprécht. Wielt Semicera fir Är Ätzléisungen an erliewt oniwwertraff Leeschtung an Haltbarkeet op Är eenzegaarteg Bedierfnesser ugepasst. Mat eiser Expertise am SiC Duschkopf an Ätstechnologie si mir hei fir Ären Erfolleg am Halbleiterfeld z'ënnerstëtzen.
Am Halbleiterfeld ass d'Stabilitéit vun all Komponent ganz wichteg fir de ganze Prozess. Wéi och ëmmer, an engem héijen Temperaturen Ëmfeld gëtt Graphit liicht oxidéiert a verluer, a SiC Beschichtung kann stabile Schutz fir Graphitdeeler ubidden. An derSemiceraEquipe, mir hunn eis eege GRAPHITE Reinigung Veraarbechtung Equipement, déi d'Rengheet vun GRAPHITE ënner 5ppm Kontroll kann. D'Rengheet vun der Siliziumkarbidbeschichtung ass och ënner 5ppm.
✓ Top Qualitéit am China Maart
✓ Gutt Service ëmmer fir Iech, 7*24 Stonnen
✓ Kuerz Liwwerdatum
✓ Kleng MOQ wëllkomm an akzeptéiert
✓ Benotzerdefinéiert Servicer
